روکش PVD / CVD ویفر سیلیکونی جلا داده شده 6 اینچی نوع N با خلوص بالا

توضیحات محصول

ویفر سیلیکونی صیقلی 6 اینچ 8 اینچ 2 اینچ 1 اینچ FZ CZ نوع ویفر سیلیکونی جلا DSP SiO2 ویفر اکسید سیلیکون ویفر سیلیکونی جلا داده شده با خلوص بالا (11N) ویفرهای Czochralski تک و دو جلا 1-12 اینچی

ویفر سیلیکونی پولیش شده با خلوص بالا (11N) 1-12 اینچ ویفر تک و دو جلا Czochralski
سایزهای 1 " 2 " 3 " 4 " 5 " 6 " 8 " 12 " و ویفرهای با اندازه و مشخصات خاص
دیسک پولیش سطحی تک، دیسک پولیش دوبل، دیسک ساینده، دیسک خوردگی، دیسک برش
جهت کریستالی <100> <111> <110> <211> <511> و ویفرهای سیلیکونی با زوایای مختلف مختلف
ضخامت 100um 200um 300um 400um 500um 1mm 5mm و سایر ضخامت ها، تحمل ضخامت +-10um،

TTV< 10um یا با توجه به نیاز مشتری، زبری <0.2nm
نوع رسانایی نوع N، نوع P، undope (مقاومت ذاتی بالا)
روش تک کریستالی Czochralski (CZ)، ذوب منطقه (FZ)، NTD (عکس میانی)
مقاومت مجدد دوپینگ می تواند به <0.001 اهم. سانتی متر، دوپینگ کم معمولی 1 تا 10 اهم.com، معمولی نور متوسط ​​500 تا 800 اهم. سانتی متر برسد،

ذوب منطقه ذوب: > 1000 اهم. سانتی متر، > 3000 اهم. سانتی متر، > 5000 اهم. سانتی متر، > 8000 اهم. سانتی متر، > 10000 اهم. سانتی متر
پارامترهای فرآیند صافی TIR: ≤3μm، Warpage TTV: ≤10μm،
Bow/Warp≤40μm، زبری≤0.5nm، اندازه ذرات <≤10ea@ > 0.3μ)
روش بسته بندی فویل آلومینیومی فوق تمیز بسته بندی وکیوم 10 عددی 25 عددی
سفارشی سازی پردازش زمان پردازش مدل، جهت کریستال، ضخامت، مقاومت و غیره با توجه به مشخصات و پارامترهای مختلف کمی متفاوت است.
مقدمه کاربرد این برای حامل های نمونه تشعشع سنکروترون مانند فرآیندها، پوشش های PVD/CVD به عنوان بستر، نمونه های رشد کندوپاش مگنترون، XRD، SEM، استفاده می شود.
نیروی اتمی، طیف‌سنجی مادون قرمز، طیف‌سنجی فلورسانس و سایر بسترهای آزمایش آنالیز، بسترهای رشد اپیتاکسی پرتو مولکولی، تجزیه و تحلیل اشعه ایکس نیمه‌رساناهای کریستالی

ZMSH کارخانه استحکام نیمه هادی است، ویژه برای آزمایش تجهیزات آزمایشگاهی تحقیقات علمی، ویفرهای اکسید سیلیکون صیقلی 2-3-4-5-6-8، ویفرهای زیر لایه میکروسکوپ الکترونی پوشش داده شده با سیلیکون تک کریستال با خلوص بالا

لطفاً قبل از ثبت سفارش برای مشخصات خاص با مالک مشورت کنید و لطفاً هر گونه سؤالی در مورد ویفرهای سیلیکونی بپرسید.

کلیه آزمایشگاه های علمی تحقیقاتی و شرکت های نیمه هادی قابل سفارش هستند و سفارش OEM قابل دریافت و واردات ویفر سیلیکونی می باشد.

بیانیه ویژه: تمام ویفرهای سیلیکونی شرکت ما از سیلیکون تک کریستال استخراج شده از پلی سیلیکون بومی پردازش می شوند، نه ویفرهای سیلیکونی بازیافتی ارزان یا ویفرهای سیلیکونی دوباره پرداخت شده استفاده شده!این قیمت شامل یک فاکتور 16٪ مالیات بر ارزش افزوده است.

فهرست موجودی ما برای ویفرهای سیلیکونی (درجه IC، روش کشش CZ)
ویفر سیلیکونی صیقلی تک طرفه مستقیم کشش
1 اینچ (25.4 میلی متر) ویفر صیقلی یک طرفه Czochralski ضخامت 500 میلی متر
2 اینچ (50.8 میلی متر) ویفر صیقلی یک طرفه Czochralski ضخامت 280 میلی متر
3 اینچ (76.2 میلی متر) ویفر صیقلی یک طرفه Czochralski ضخامت 380 میلی متر
ویفر سیلیکونی صیقلی یک طرفه 4 اینچی (100 میلی متر) با ضخامت 500 میلی متر
ویفر Czochralski صیقلی 5 اینچی (125 میلی متر) یک طرفه با ضخامت 625 میلی متر
6 اینچ (150 میلی متر) ویفر صیقلی یک طرفه Czochralski ضخامت 675 میلی متر

ویفرهای سیلیکونی صیقلی دو طرفه Czochralski
ویفر Czochralski صیقلی دو طرفه 1 اینچ (25.4 میلی متر) ضخامت 500 میلی متر
2 اینچ (50.8 میلی متر) ویفر دو طرفه پولیش Czochralski ضخامت 280 میلی متر
3 اینچ (76.2 میلی متر) ویفر دو طرفه جلا Czochralski ضخامت 380 میلی متر

4 اینچ (100 میلی متر) ویفر دو طرفه جلا Czochralski ضخامت 500 میلی متر
5 اینچ (125 میلی متر) ویفر دو طرفه جلا Czochralski ضخامت 625 میلی متر
6 اینچ (150 میلی متر) ویفر دو طرفه جلا Czochralski ضخامت 675 میلی متر
ویفرهای سیلیکونی بسیار نازک صیقلی یک طرفه با کشیدن مستقیم

1 اینچ (25.4 میلی متر) ویفر سیلیکونی صیقلی فوق نازک یک طرفه با ضخامت 100 میلی متر
2 اینچ (50.8 میلی متر) ویفر سیلیکونی صیقلی فوق نازک با کشش مستقیم یک طرفه با ضخامت 100 میلی متر
3 اینچ (76.2 میلی متر) ویفر سیلیکونی صیقلی فوق نازک با کشش مستقیم با ضخامت 100 میلی متر
ویفر سیلیکونی بسیار نازک صیقلی 4 اینچی (100 میلی متر) صیقلی یک طرفه با ضخامت 100 میلی متر

ویفرهای سیلیکونی بسیار نازک جلا داده شده دو طرفه Czochralski
1 اینچ (25.4 میلی متر) ویفر فوق نازک صیقلی دو طرفه Czochralski ضخامت 100 میلی متر
2 اینچ (50.8 میلی متر) ویفر فوق نازک دو طرفه جلا Czochralski با ضخامت 100 میلی متر
3 اینچ (76.2 میلی متر) ویفر فوق نازک جلا دو طرفه Czochralski با ضخامت 100 میلی متر
4 اینچ (100 میلی متر) ویفر فوق نازک صیقلی دو طرفه Czochralski ضخامت 100 میلی متر

ویفر سیلیکونی (گرید IC، منطقه ذوب FZ)
ویفر سیلیکونی صیقلی تک طرفه ذوب زون
ویفر سیلیکونی ذوب شده 1 اینچی (25.4 میلی متر) با ضخامت 500 میلی متر در ناحیه پرداخت یک طرفه
2 اینچ (50.8 میلی متر) ویفر سیلیکونی ذوب شده با ضخامت 280 میلی متر در ناحیه پرداخت یک طرفه

ویفر سیلیکونی ذوب شده 3 اینچی (76.2 میلی متر) با ضخامت 380 میلی متر در ناحیه پولیش یک طرفه
ویفر سیلیکونی ذوب شده 4 اینچ (100 میلی متر) با ضخامت 500 میلی متر در ناحیه پرداخت یک طرفه

ویفرهای سیلیکونی صیقلی دو طرفه ذوب منطقه ای
1 اینچ (25.4 میلی متر) ویفر سیلیکونی ذوب شده با ضخامت 500 میلی متر در ناحیه پولیش دو طرفه
2 اینچ (50.8 میلی متر) ویفر سیلیکونی ذوب شده با ضخامت 280 میلی متر در ناحیه پرداخت دو طرفه
ویفر سیلیکونی ذوب شده 3 اینچی (76.2 میلی متر) با ضخامت 380 میلی متر در ناحیه پولیش دو طرفه
ویفر سیلیکونی ذوب شده 4 اینچ (100 میلی متر) با ضخامت 500 میلی متر در ناحیه پرداخت دو طرفه

ویفر سیلیکونی فوق نازک صیقلی تک طرفه ذوب زون
1 اینچ (25.4 میلی متر) منطقه پولیش یک طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک با ضخامت 100 میلی متر
2 اینچ (50.8 میلی متر) منطقه پولیش یک طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک با ضخامت 100 میلی متر
3 اینچ (76.2 میلی متر) منطقه پولیش یک طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک با ضخامت 100 میلی متر
4 اینچ (100 میلی متر) منطقه پولیش یک طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک با ضخامت 100 میلی متر

ویفرهای سیلیکونی فوق نازک جلا داده شده دو طرفه ذوب منطقه
1 اینچ (25.4 میلی متر) منطقه پولیش دو طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک ضخامت 100 میلی متر
2 اینچ (50.8 میلی متر) منطقه پولیش دو طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک ضخامت 100 میلی متر

3 اینچ (76.2 میلی متر) منطقه پولیش دو طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک ضخامت 100 میلی متر
4 اینچ (100 میلی متر) منطقه پولیش دو طرفه ذوب ویفر سیلیکونی فوق العاده نازک ضخامت 100 میلی متر

 

 
برای حامل‌های نمونه تشعشع سنکروترون مانند فرآیندها، پوشش PVD/CVD به عنوان بستر، نمونه‌های رشد کندوپاش مگنترون، XRD، SEM، نیروی اتمی، طیف‌سنجی فروسرخ، طیف‌سنجی فلورسانس و سایر زیرلایه‌های آنالیز و آزمایش، زیرلایه‌های رشد پرتو ایکس اپیتاکسی پرتو مولکولی، استفاده می‌شود. تجزیه و تحلیل لیتوگرافی نیمه هادی کریستالی

اطلاعات سفارش باید شامل موارد زیر باشد:
1. مقاومت
2. اندازه: 2، 3، 4، 5 اینچ اندازه های دیگر را می توان سفارشی کرد
3. ضخامت
4. پرداخت یک طرفه، پرداخت دو طرفه، بدون پرداخت
5. درجه: درجه مکانیک، نمره آزمون، درجه اول (فیلم مثبت)
6. نوع هدایت: نوع P، نوع N
7. جهت گیری کریستالی
7. نوع دوپینگ: دوپ شده با بور، دوپه شده با فسفر، دوپ شده با آرسنیک، دوپینگ با گالیم، دوپ شده با آنتیموان، دوپ نشده
8. TTV، BOW (مقدار طبیعی <10um است)

مشخصات محصول

1. چگونه می توانیم کیفیت را تضمین کنیم؟
همیشه یک نمونه پیش تولید قبل از تولید انبوه؛
همیشه بازرسی نهایی قبل از حمل و نقل؛

2. چه چیزی می توانید از ما بخرید؟
قطعات فلزی برش لیزری، شیشه برش لیزری، شیشه یاقوت کبود، پلاستیک برش لیزری / اکریلیک، قطعات آلومینیومی برش لیزری / سرامیک

3. چرا باید از ما خرید کنید نه از تامین کنندگان دیگر؟
1.بیش از 10 سال تجربه.2. تحویل سریع و قیمت خوب.3. کیفیت بهتر و خدمات به مشتریان.4.100٪ بازرسی قبل از حمل و نقل.5. روش های مختلف حمل و نقل برای تضمین تحویل سریع و هزینه حمل و نقل ارزان.

4. چه خدماتی می توانیم ارائه دهیم؟
شرایط تحویل پذیرفته شده: FOB,CFR,CIF,EXW,FAS,CIP,FCA,CPT,DEQ,DDP,DDU,تحویل اکسپرس,DAF,DES；
ارز پرداخت پذیرفته شده: USD,EUR,JPY,CAD,AUD,HKD,GBP,CNY,CHF;
نوع پرداخت پذیرفته شده: T/T، L/C، D/PD/A، MoneyGram، کارت اعتباری، PayPal، Western Union، نقدی، امانی.
زبان صحبت: انگلیسی، چینی، اسپانیایی، ژاپنی، پرتغالی، آلمانی، عربی، فرانسوی، روسی، کره ای، هندی، ایتالیایی