سیلیکون کربید سینی های سی سی وافرهای سینی سینی برای حکاکی ICP MOCVD Susceptor Wear Resistant

توضیحات محصول

سیلیکون کربید سینی های سی سی وافرهای سینی سینی برای حکاکی ICP MOCVD Susceptor Wear Resistant

توضیحات

سینی های گرافیتی پوشش داده شده با SIC از ماتریس های گرافیتی با خلوص بالا ساخته شده اند و پوشش SiC را از طریق CVD (تعمیر بخار شیمیایی) با خلوص فوق العاده بالا و تراکم نظری دریافت می کنند.اين پوشش سي سي سي CVD به شدت سخته، اجازه می دهد تا آن را به یک پایان مانند آینه، نشان دهنده خلوص فوق العاده بالا و مقاومت قابل توجه به لباس. این سینی های پوشیده در محیط های خلاء بالا و دمای بالا،که آنها را برای صنعت نیمه هادی و سایر محیط های فوق العاده تمیز ایده آل می کندآنها در درجه اول به عنوان زیربنایی برای تشکیل لایه اپیتاسیال بر روی وافرهای نیمه هادی استفاده می شوند و مزایای مختلفی مانند سطوح بسیار خالص و مقاومت لباس برتر دارند.با CVD که پوشش SiC را با حداقل منافذ و ماهیت پولیش قابل کربید سیلیکون تضمین می کند، این محصولات کاربرد گسترده ای در صنایع نیمه هادی دارند، از جمله سینی های MOCVD، RTP و اتاق های حکاکی اکسید،به دلیل مقاومت عالی نیترید سیلیکون در برابر شوک حرارتی و مقاومت پلاسما.

نمایشگاه محصول

خواص محصول

1. خالصیت فوق العاده بالا
2. مقاومت عالی در برابر ضربه های حرارتی
3. مقاومت فیزیکی عالی در برابر ضربه
4. قابلیت ماشینکاری برای اشکال پیچیده
5. ثبات شیمیایی عالی
6. می تواند در اتمسفر های اکسید کننده استفاده شود.

استفاده از محصول

ICP Etching:سینی های کربید سیلیکون اجزای مهمی در سیستم های حکاکی ICP (پلازما ایندوکتیو) هستند، جایی که آنها به عنوان پلتفرم های قوی برای نگهداری و پردازش وافرهای نیمه هادی عمل می کنند.ماهیت مقاوم به لباس سینی ها اطمینان از قابلیت اطمینان طولانی مدت و ثبات در طول فرآیند حکاکی را تضمین می کند، کمک به انتقال دقیق الگوی و تغییر سطح بر روی وافرها.

مظنون به MOCVD:در سیستم های MOCVD، سینی های کربید سیلیکون به عنوان حساس عمل می کنند و پشتیبانی پایدار برای سپرده گذاری فیلم های نازک بر روی زیربناهای نیمه هادی را فراهم می کنند.توانایی سینی ها برای حفظ خلوص بالا و مقاومت در برابر دماهای بالا باعث می شود که آنها را برای تسهیل رشد لایه های اپیتاسیال با کیفیت برتر و یکنواخت مناسب کنند.

مقاوم به پوشیدن:مجهز به پوشش SiC، این سینی ها دارای مقاومت قابل توجهی در برابر فرسایش هستند و زندگی طولانی مدت را حتی در شرایط سخت کار تضمین می کنند.مقاومت آنها در برابر سایش و تخریب شیمیایی باعث افزایش بهره وری و به حداقل رساندن زمان توقف می شود، که آنها را در محیط های تولید نیمه هادی با سرعت بالا ضروری می کند.

سینی گرافیتی پوشش داده شده SIC به عنوان پایه ای برای تثبیت و گرم کردن وافرهای نیمه هادی در طول درمان حرارتی استفاده می شود. انرژی می تواند جذب شود و تراشه را از طریق تحرک، هدایت یا تشعشع گرم کند.و مقاومت به شوک حرارتی آن، رسانایی حرارتی و خلوص برای پردازش حرارتی سریع (RTP) ضروری است.و عملکرد و کیفیت پایه تأثیر مهمی بر کیفیت لایه اپیتاسیال وافر دارد..

پرسش و پاسخ

گرافيت حساس چيست؟

دستکش ها و کفش ها از مواد گرافیتمحافظت از سینتر از تأثیرات خارجی، مانند تابش مستقیم حرارتی از عناصر گرمایشیآنها خود را گرم می کنند و گرما خود را به طور یکنواخت به قطعات کار می دهند.

پوشش SiC چیست؟

پوشش کربید سیلیکون چیست؟یک روکش متراکم و مقاوم به فرسایش کربید سیلیکون (SiC)این ماده دارای خواص مقاومت در برابر خوردگی و گرما و همچنین رسانایی حرارتی عالی است. ما سی سی را در لایه های نازک بر روی گرافیت با استفاده از فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD) اعمال می کنیم.درخواست ها.

گرافيت کربيد سيليکوني چيست؟

SiC30 - مواد ترکیبی کربید سیلیکون-گرافیت

SiC30یک ماده ترکیبی استثنایی متشکل از کربید سیلیکون و گرافیت، که ترکیبی از خواص آن مشکلات را حل می کند که با مواد دیگر قابل حل نیست.محصول

توصیه محصول

1SIC سیلیکون کربید وفر 4H - N نوع برای دستگاه MOS 2inch Dia50.6mm ((برای اطلاعات بیشتر لطفا روی تصویر کلیک کنید)

توجه

لطفا برای اطلاعات بیشتر در مورد گزینه های محصول سفارشی با ما تماس بگیرید.

کلمات کلیدی:

1. سینی های کربید سیلیکون
2. پوشش SiC
3. CVD (تخلیه بخار شیمیایی)
4. خالصیت بالا
5. مقاوم به پوشیدن
6. صنعت نیمه هادی
7. لایه ی اپیتاکسیال
8. MOCVD
9. مقاومت به شوک حرارتی
10. گزینه های قابل تنظیم