نام تجاری: | ZMSH |
شرایط پرداخت: | T/T |
پهنای باند بستر N-InP 02:2.5G طول موج 1270nm epi wafer برای دیود لیزر FP
خلاصه ای از زیربنای N-InP FP Epiwafer
اپیوافر N-InP Substrate FP ما یک اپیوافر اپیتاکسیال با عملکرد بالا است که برای ساخت دیود های لیزری Fabry-Pérot (FP) طراحی شده است که به طور خاص برای برنامه های ارتباطی نوری بهینه شده است.این Epiwafer دارای یک N-نوع Indium Phosphide (N-InP) زیربنایاین ماده به خاطر خواص عالی الکترونیک و اپتو الکترونیک شناخته شده است که آن را برای دستگاه های با سرعت بالا و فرکانس بالا ایده آل می کند.
اپیوافر برای تولید دیود های لیزری که در طول موج 1270 نانومتر کار می کنند طراحی شده استکه طول موج بحرانی برای سیستم های چندگانه سازی تقسیم طول موج ضخیم (CWDM) در ارتباطات فیبر نوری است.کنترل دقیق ترکیب و ضخامت لایه epitaxial عملکرد بهینه را تضمین می کند، با دیود لیزر FP قادر به دستیابی به پهنای باند عملیاتی تا 2.5 گیگاهرتز.این پهنای باند باعث می شود دستگاه مناسب برای انتقال داده با سرعت بالا، پشتیبانی از برنامه هایی که نیاز به ارتباطات سریع و قابل اعتماد دارند.
ساختار حفره فابری-پرو (FP) دیود لیزر، که توسط لایه های اپیتاسیال با کیفیت بالا در بستر InP تسهیل می شود،تضمین تولید نور منسجم با کمترین سر و صدا و بهره وری بالااين اپيوافر براي ارائه عملکرد ثابت و قابل اعتمادي طراحی شده است که اين را انتخاب فوق العاده اي براي توليد كننده هاي ديود هاي ليزري پيشرفته براي مخابراتمراکز داده، و دیگر محیط های شبکه با سرعت بالا.
خلاصه، اپی وافر N-InP Substrate FP ما یک جزء حیاتی برای سیستم های پیشرفته ارتباطات نوری است، که خواص مواد عالی، هدف گیری دقیق طول موج،و پهنای باند عملیاتی بالااین یک پایه قوی برای تولید دیود های لیزر FP فراهم می کند که نیازهای سختگیرانه شبکه های ارتباطی مدرن با سرعت بالا را برآورده می کند.
خواص بستر N-InP FP Epiwafer
The N-InP Substrate FP Epiwafer is characterized by a set of specialized properties that make it an ideal choice for the fabrication of Fabry-Pérot (FP) laser diodes used in high-performance optical communication systemsزیر خواص اصلی این اپیوافر است:
مواد زیربنایی:
لایه ی اپیتاکسیال:
طول موج:
پهنای باند:
حفره فابری-پرو:
کیفیت سطح:
خواص حرارتی:
کاربرد مناسب:
این خواص به طور کلی به توانایی Epiwafer برای پشتیبانی از تولید دیود های لیزری FP با کیفیت بالا کمک می کنند.پاسخگویی به خواسته های سختگیرانه فناوری های مدرن ارتباطات نوری.
کاربردهای بستر N-InP FP Epiwafer
اپیوافر N-InP Substrate FP یک جزء حیاتی در توسعه دستگاه های پیشرفته اپتوالکترونیک، به ویژه دیود های لیزری Fabry-Pérot (FP) است.خواص آن را مناسب برای طیف گسترده ای از برنامه های کاربردی در ارتباطات با سرعت بالا و زمینه های مرتبطکاربرد های اصلی این است:
سیستم های ارتباطی نوری:
مراکز داده:
مخابرات:
تجهیزات آزمایش و اندازه گیری:
سنجش و سنجش:
تنوع و ویژگی های عملکرد بالا N-InP Substrate FP Epiwafer را به سنگ بنای طیف گسترده ای از فن آوری های پیشرفته در ارتباطات نوری، مراکز داده،مخابرات، و فراتر از آن.
عکس های بستر N-InP FP Epiwafer