دستگاه پولیش پرتو یونی
دقت در سطح اتمی · پردازش غیر تماسی · سطوح فوق‌العاده صاف

بررسی اجمالی محصول دستگاه پولیش پرتو یونی
 

دستگاه شکل‌دهی/پولیش CNC پرتو یونی بر اساس اصل پاشش یونی عمل می‌کند. در شرایط خلاء، منبع یون یک پرتو پلاسما تولید می‌کند که به یک پرتو یونی شتاب داده می‌شود و سطح قطعه کار را برای حذف مواد در سطح اتمی بمباران می‌کند و امکان ساخت فوق‌العاده دقیق اجزای نوری را فراهم می‌کند.

این فناوری ارائه می‌دهد پردازش غیر تماسی, عاری از تنش مکانیکی یا آسیب زیرسطحی است و برای اپتیک با دقت بالا در نجوم، هوافضا، نیمه‌رساناها و تحقیقات علمی ایده‌آل است.

اصل کار دستگاه پولیش پرتو یونی

• تولید یون – گاز بی‌اثر (به عنوان مثال، آرگون) وارد محفظه خلاء می‌شود و توسط یک میدان تخلیه الکتریکی یونیزه می‌شود.

• شتاب یون و تشکیل پرتو – یون‌ها تا صدها یا هزاران الکترون ولت (eV) شتاب می‌گیرند و توسط اپتیک متمرکز به یک نقطه پرتو پایدار شکل داده می‌شوند.

• حذف مواد – پرتو یونی اتم‌های سطح را به صورت فیزیکی بدون واکنش‌های شیمیایی می‌پاشد.

• اندازه‌گیری خطا و برنامه‌ریزی مسیر – خطاهای شکل سطح از طریق تداخل‌سنجی اندازه‌گیری می‌شوند، سپس از توابع حذف برای محاسبه زمان‌های توقف پرتو و تولید مسیرهای پردازش استفاده می‌شود.

• اصلاح حلقه بسته – چرخه‌های پردازش و اندازه‌گیری تکرار می‌شوند تا زمانی که به اهداف RMS/PV دست یابند.

ویژگی‌های تجهیزات دستگاه پولیش پرتو یونی

• پردازش غیر تماسی – قادر به رسیدگی به تمام اشکال سطح

• نرخ حذف پایدار – دقت اصلاح شکل زیر نانومتر

• بدون آسیب زیرسطحی – یکپارچگی نوری را حفظ می‌کند

• سازگاری بالا – نوسانات کم در مواد با سختی‌های مختلف

• اصلاح فرکانس کم/متوسط – عدم تولید خطای فرکانس متوسط-بالا

• هزینه نگهداری کم – عملکرد مداوم طولانی مدت با حداقل زمان خرابی

ظرفیت پردازش تجهیزات دستگاه پولیش پرتو یونی

سطوح موجود:

• اجزای نوری ساده: صفحه، کره، منشور

• اجزای نوری پیچیده: آسفر متقارن/نامتقارن، آسفر خارج از محور، سطح استوانه‌ای

• اجزای نوری ویژه: اپتیک فوق‌العاده نازک، اپتیک اسلتی، اپتیک نیمکره‌ای، اپتیک انطباقی، صفحات فاز، سطوح آزاد، سایر اشکال سفارشی

مواد موجود:

• شیشه نوری رایج: کوارتز، میکروکریستالی، K9 و غیره

• اپتیک مادون قرمز: سیلیکون، ژرمانیوم و غیره

• فلزات: آلومینیوم، فولاد ضد زنگ، آلیاژ تیتانیوم و غیره

• مواد کریستالی: YAG، کاربید سیلیکون تک کریستالی و غیره

• سایر مواد سخت/شکننده: کاربید سیلیکون و غیره

کیفیت/دقت سطح:

• PV < 10 نانومتر

• RMS ≤ 0.5 نانومتر

مزایای محصول دستگاه پولیش پرتو یونی

• دقت حذف در سطح اتمی – سطوح فوق‌العاده صاف را برای سیستم‌های نوری پر تقاضا امکان‌پذیر می‌کند

• سازگاری با اشکال متنوع – از اپتیک تخت تا فرم‌های آزاد پیچیده

• انطباق‌پذیری گسترده مواد – از کریستال‌های دقیق تا سرامیک‌های سخت و فلزات

• قابلیت دیافراگم بزرگ – پردازش اپتیک تا Φ4000 میلی‌متر

• عملکرد پایدار طولانی – 3 تا 5 هفته بدون نگهداری محفظه خلاء کار می‌کند

مدل‌های معمولی دستگاه پولیش پرتو یونی

• IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

• محورهای حرکت: 3 محور / 5 محور

• حداکثر اندازه قطعه کار: تا Φ4000 میلی‌متر

مورد 1 – آینه تخت استاندارد

• قطعه کار: تخت کوارتز D630 میلی‌متر

• نتیجه: PV 46.4 نانومتر; RMS 4.63 نانومتر

​​

مورد 2 – آینه بازتابنده اشعه ایکس

• قطعه کار: تخت سیلیکون 150 × 30 میلی‌متر

• نتیجه: PV 8.3 نانومتر; RMS 0.379 نانومتر; شیب 0.13 µرادیان

​

مورد 3 – آینه خارج از محور

• قطعه کار: آینه زمینی خارج از محور D326 میلی‌متر

• نتیجه: PV 35.9 نانومتر; RMS 3.9 نانومتر

زمینه‌های کاربردی دستگاه پولیش پرتو یونی

• اپتیک نجومی – آینه‌های اولیه/ثانویه تلسکوپ‌های بزرگ

• اپتیک فضایی – سنجش از دور ماهواره‌ای، تصویربرداری فضایی عمیق

• سیستم‌های لیزر با توان بالا – اپتیک ICF، شکل‌دهی پرتو

• اپتیک نیمه‌رسانا – لنزها و آینه‌های لیتوگرافی

• ابزار دقیق علمی – آینه‌های اشعه ایکس/نوترون، اجزای استاندارد اندازه‌شناسی

محصول مرتبط

دستگاه حکاکی لیزر فیبر جمع و جور بدون نیاز به نگهداری تمیز برای کارگاه‌های کسب و کارهای کوچک

دستگاه برش اره سیم الماسی

درباره ما

ZMSH در توسعه، تولید و فروش فناوری پیشرفته شیشه نوری ویژه و مواد کریستالی جدید تخصص دارد. محصولات ما به الکترونیک نوری، الکترونیک مصرفی و ارتش خدمات ارائه می‌دهند. ما اجزای نوری یاقوت کبود، پوشش لنز تلفن همراه، سرامیک، LT، کاربید سیلیکون SIC، کوارتز و ویفرهای کریستال نیمه‌رسانا را ارائه می‌دهیم. با تخصص ماهرانه و تجهیزات پیشرفته، ما در پردازش محصولات غیر استاندارد برتری داریم و هدف ما این است که یک شرکت فناوری پیشرفته مواد اپتوالکترونیک پیشرو باشیم.