C-Plane (0001)، A-Plane (11-20)، R-Plane (1-102)، یا سفارشی
شکل بستر:
گرد، مربع، مستطیل یا سفارشی
فرآیند متالیزاسیون:
کندوپاش، تبخیر، یا سایر فرآیندهای واجد شرایط
لایه چسبندگی:
Ti، کروم، یا سایر مواد مشخص شده
لایه مانع:
Ni، Pt، یا سایر مواد، بسته به طراحی
قابلیت ارائه:
بر حسب مورد
برجسته کردن:
Metallized sapphire substrates for RF devices
,
Microwave microelectronic sapphire substrates
,
Sapphire substrates with metallized coating
توضیحات محصول
Product Overview Metallized sapphire substrates are functional substrate materials manufactured by depositing metallic thin films onto high-purity single-crystal sapphire (Al₂O₃). By combining the excellent electrical insulation, high hardness, chemical stability, and thermal stability of sapphire with the functional properties of metal films, these substrates provide a versatile solution for advanced electronic devices, RF components, optoelectronic systems, and semiconducto